机译:用于薄膜沉积工艺的全晶圆映射和响应表面建模技术
机译:勘误表:“随着3D全室建模和实验视觉技术的发展,新颖的腔室硬件设计可提高12英寸(300毫米)和18英寸(450毫米)晶片的薄膜沉积质量” [AIP进展3(7 ),072117(2013)]
机译:新颖的腔室硬件设计,通过3D全腔室建模和实验视觉技术的开发,可提高12英寸(300毫米)和18英寸(450毫米)晶圆的薄膜沉积质量
机译:化学气相沉积室设计可通过3D室建模和实验视觉技术的开发来提高12英寸(300毫米)和18英寸(450毫米)晶圆的薄膜沉积质量
机译:用于组合化学气相沉积反应器操作的完整晶片图响应表面模型。
机译:响应面法在薄膜水化技术制备西罗莫司脂质体开发中的应用
机译:Erratum:“新型腔室硬件设计,通过3D全腔造型和实验视觉技术的发展,改善12”(300 mm)和18“(450 mm)晶圆的薄膜沉积质量”[aIp advances 3(7 ),072117(2013)]
机译:用于脉冲激光沉积薄膜的热,电子,流体动力学和动态沉积过程的建模